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| 고농도
Particle Analyzer (FPAR - 1000 AS) |
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묽은용액으로부터 진한용액까지, 폭넓은 농도 범위로의 고속·고정밀의 입자 지름·입자 지름 분포(입경·입경 분포) 측정이 가능합니다.
미립자 특유의 분산·응집 과정을 모니터 하는 기능 등, 연구·품질관리의 폭넓은 용도로 사용 가능합니다.
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측정 항목 |
| 입자지름 |
| 3nm ~ 5000nm |
| 1nm ~ 5000nm( 고감도 사양) |
쿱란트 평균 입자 지금
히스토그램 평균 입자 지름(D50) |
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| 분포해석 |
| CONTIN 법 |
| MARQUARDT 법 |
| NNLS 법 |
| CUMULANT 법 |
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대응 농도 범위
(표준 라텍스 204nm의 경우)
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| 0.001 ~10 % |
농후계 프로브(표준)
0.01 ~ 10 % |
희박계 프로브(옵션)
0.001 ~ 0.01% |
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| 제품특징 |
- 자동샘플을 사용하면 50개까지 시료를 자동 연속 측정 가능
- 묽은용액으로부터 진한용액까지, 폭넓은 농도 범위로의 고속·고정밀의 입자 지름·입자
지름 분포(입경·입경 분포) 측정이 가능
- 미립자 특유의 분산·응집 과정을 모니터 하는 기능 등, 연구·품질관리의 폭넓은 용도로
사용 가능
- 신개발의 측정 프로브에 의해, 진한 용액으로의 고정밀의 입자 지름 측정에 대응
- 샘플온조, 초음파 세정 등, 필요한 기능을 모두 내장한 A3사이즈의 컴팩트 설계
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| 응용분야 |
| 색재 공업에 있어서의 안료·잉크의 분산·응집
제어·입자 지름 관리 |
| 세라믹 색료 가공분야 |
slurry의 분산·응집 제어, 분산제효과 |
| 반도체 분야 |
연마 입자의 입자 지름 관리 |
| 고분자·화학공업 분야 |
에멀젼, 라텍스의 분산 응집 제어, 입자
지름 관리 |
| 의약품 식품공업분야 |
에멀젼의 분산·응집 제어, 리포솜 등의
입자 지름 관리 |
| 광촉매 분야 |
산화 티탄 입자의 분산 상태 관리 |
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사양 |
| 광원 |
반도체 레이저
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| 검출기 |
광전자증배관(포톤카운팅 방식) |
| 샘플 온도 범위 |
10 ～ 70℃ |
| 온도 조절 방식 |
전자식 냉각 소자,
히터 |
| 전원 |
AC100V ± 10%50/60Hz 300VA |
| 치수 |
320(W)× 507(D)×284(H)
mm
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| 중량 |
약 22 kg |
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자동샘플 사양 |
| 샘플 |
원통형 셀(뚜껑 포함) 샘플 용량1 2.5ml
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| 샘플 수 |
한번에 50개까지 탑재 가능 |
| 온도 |
히터·펠 최 방식 |
| 샘플 온도 범위 |
15 ~ 40% |
| 측정 농도 범위 |
0.001% ~ 10%(FPAR-1000으로
접속시) |
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측정사례 |
- 유기안료 - 프린터용 잉크
- 무기 분체 - CMP slurry
- 메이커의 커피 음료 비교
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옵션 |
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관련제품 |
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